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高低温冲击试验箱有机污染包括光刻胶有机溶
发布者:无锡玛瑞特科技有限公司 发布时间:2020/12/25 4:19:51 点击次数:286 关闭

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  隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统,HMDS烤箱,洁净烤箱,无氧烤箱,无尘无氧固化烤箱,LED烤箱,UV固化烤箱,隧道烘箱,高低温试验箱,高低温交变湿热箱定做,HMDS晶片处理系统,低温脆性检测仪,黑蒜发酵设,导体直流电阻测试仪,电线电缆检测仪器,真空烘箱,黑蒜试验机,橡塑检测试验机等。

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  硅片清洗设,硅片全自动清洗机应用于集成电路,MEMS器件,微波器件,先进封装等工艺。去胶清洗设,显影清洗设,酸碱刻蚀机。也可用于零部件清洗,石英管道清洗,外延片清洗(砷化镓,氮化镓,碳化硅,铌酸锂等

  半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。

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